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90 nm技术节点硅栅的干法刻蚀工艺研究
  • ISSN号：1003-8213
  • 期刊名称：《微细加工技术》
  • 时间：0
  • 分类：TN405.98+2[电子电信—微电子学与固体电子学]
  • 作者机构：[1]中国科学院微电子研究所,纳米加工与新器件集成技术实验室,北京,100029 中国科学院微电子研究所,纳米加工与新器件集成技术实验室,北京,100029 中国科学院微电子研究所,纳米加工与新器件集成技术实验室,北京,100029 中国科学院微电子研究所,纳米加工与新器件集成技术实验室,北京,100029 中国科学院微电子研究所,纳米加工与新器件集成技术实验室,北京,100029 中国科学院微电子研究所,纳米加工与新器件集成技术实验室,北京,100029
  • 相关基金：国家重点基础研究发展计划(973)资助项目(G200036504);国家自然科学基金重点项目资助(60236010;60376020)
作者： 张庆钊[1], 谢常青[1], 刘明[1], 李兵[1], 朱效立[1], 马杰[1]
关键词： 90, NM, 硅栅, 干法刻蚀
中文摘要：

进入90 nm工艺节点以后,在等离子体干法刻蚀工艺中出现了越来越多需要解决的技术性问题,带有图形的晶片(相对于白片而言)上的膜层结构设计和刻蚀工艺参数的优化技术变得越来越重要.重点以具有栅氧化层、多晶硅层、二氧化硅和氮氧化硅复合硬掩膜层的典型结构图形晶片为基础,开展应用于90 nm技术节点的多晶硅栅的刻蚀工艺的研发,深入分析了氯气、溴化氢和氧气等反应气体在工艺中的作用,优化了工艺参数,得到了满足90 nm技术节点工艺要求的刻蚀结果.

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期刊信息
  • 《微细加工技术》
  • 主管单位:信息产业部
  • 主办单位:中国电子科技集团公司第48研究所
  • 主编：伍三忠
  • 地址：长沙市第96号信箱301分箱（长沙黑石铺）
  • 邮编：410111
  • 邮箱：
  • 电话：0731-2891478
  • 国际标准刊号：ISSN：1003-8213
  • 国内统一刊号：ISSN：43-1140/TN
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  • 中文核心期刊,国家一级检索刊物用刊
  • 国内外数据库收录:
  • 荷兰文摘与引文数据库
  • 被引量:1695