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低压沉积-微弧氧化制备钛金属HA-TiO_2复合膜层
ISSN号:1001-3660
期刊名称:表面技术
时间:2011
页码:64-68
相关项目:镁合金微弧氧化陶瓷层形成与生长的电量消耗机制及降耗理论研究
作者:
时惠英|李育磊|蒋百灵|
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期刊信息
《表面技术》
中国科技核心期刊
主管单位:中国兵器装备集团公司
主办单位:中国兵器工业第五九研究所
主编:吴护林
地址:重庆市石桥铺渝州路33号
邮编:400039
邮箱:wjqkbm@vip.163.com
电话:023-68792193
国际标准刊号:ISSN:1001-3660
国内统一刊号:ISSN:50-1083/TG
邮发代号:78-31
获奖情况:
重庆市第四届期刊综合质量考评一级期刊
国内外数据库收录:
美国化学文摘(网络版),美国剑桥科学文摘,中国中国科技核心期刊,中国北大核心期刊(2008版),中国北大核心期刊(2011版),中国北大核心期刊(2014版),中国北大核心期刊(2000版)
被引量:11079