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光纤三维微结构的157nm激光微刻蚀
  • 期刊名称:光电子.激光
  • 时间:0
  • 页码:192-195
  • 语言:中文
  • 分类:TN253[电子电信—物理电子学]
  • 作者机构:[1]武汉理工大学光纤传感技术国家工程实验室,湖北武汉430070
  • 相关基金:国家自然科学基金资助项目(50775169;60537050)
  • 相关项目:新兴半导体材料的157nm激光三维微加工技术研究
中文摘要:

研究了157 nm激光刻蚀光纤三维微结构的基本性能。实验结果表明,石英材料的刻蚀率随脉冲数的增加呈下降的趋势,大光斑的刻蚀率高于同等条件下小光斑的刻蚀率。为提高微孔加工的质量,脉冲频率不宜高于25 Hz。

英文摘要:

The 157 nm laser micro-ablation characteristics for optical fibers are investigated,and a 3D-microstructure of optical fiber is fabricated.Experimental results show that,with increasing the laser shot numbers,the ablation rate of fused silica fibers will reduce gradually.The larger laser spot is preferable to enhance the ablation rate.The laser repetition rate is preferably not more than 25 Hz to improve the quality of ablated micro-holes.The 157 nm laser is available for ablating three-dimensional micro-structures in optical fiber.

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