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CH与聚变材料Be相互作用的分子动力学模拟
  • ISSN号:1672-7126
  • 期刊名称:《真空科学与技术学报》
  • 时间:0
  • 分类:TL612[核科学技术—核技术及应用] TL627[核科学技术—核技术及应用]
  • 作者机构:[1]四川大学原子核科学技术研究所,成都610064, [2]四川大学材料科学与工程学院,成都610064, [3]核工业西南物理研究院,成都610041
  • 相关基金:国际热核聚变实验堆(ITER)计划专项(批准号:2013GB114003);科技部863基金项目(合同号:2011AA050515);自然科学基金(项目批准号:11275135)
中文摘要:

采用分子动力学方法模拟了不同能量的CH粒子与聚变材料Be的相互作用。根据托卡马克中的环境,入射粒子CH的模拟入射能量分别设定为低能量(1,5,10,25 eV)和高能量(50,100,150,200 eV),其中碳的沉积率随能量的增大逐渐增加,而氢的沉积率恰好相反。当CH粒子的入射能量为低能量时,Be样品表面形成一层碳氢膜;且其膜厚度越来越薄,并且形成一个厚度逐渐增加中间层;当入射能量为高能量时,样品中的Be原子溅射越来越大,入射粒子在样品中的入射深度越来越深,对样品的破坏越来越大,且会在样品中形成一个C反应层。

英文摘要:

The interaction of CH and fusion material Be is studied by molecular dynamic method in this paper. According to the environment in the tokamak, the simulated incident energy of the incident particle are low energy ( 1,5,10, 25 eV) and high energy (50,100,150,200 eV), respectively, the deposition rate of carbon atoms increased with the incident energy gradually, while it is opposite for the hydrogen atoms. When the incident energy of CH is low, a layer of hydrocarbon film is formed on the surface of Be, and increasingly film becomes more and more thicker as a function of incident energy, meanwhile, the intermediate layer is formed with thickness increase. When incident energy of the incident particle is high, the sputtering of Be atom increase largely, the penetration depth of the incident particle get deeper in the sample, the sample is destructed by the incident particle increasingly, and forming a reaction layer in the sample.

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期刊信息
  • 《真空科学与技术学报》
  • 中国科技核心期刊
  • 主管单位:中国科学技术协会
  • 主办单位:中国真空学会
  • 主编:李德杰
  • 地址:北京朝阳区建国路93号万达广场9号楼614室
  • 邮编:100022
  • 邮箱:cvs@chinesevacuum.com
  • 电话:010-58206280
  • 国际标准刊号:ISSN:1672-7126
  • 国内统一刊号:ISSN:11-5177/TB
  • 邮发代号:
  • 获奖情况:
  • 国内外数据库收录:
  • 美国化学文摘(网络版),荷兰文摘与引文数据库,美国工程索引,日本日本科学技术振兴机构数据库,中国中国科技核心期刊,中国北大核心期刊(2004版),中国北大核心期刊(2008版),中国北大核心期刊(2011版),中国北大核心期刊(2014版),英国英国皇家化学学会文摘,中国北大核心期刊(2000版)
  • 被引量:4421