位置：成果数据库 > 期刊 > 期刊详情页
Hydrogen-induced recovery of p
  • 时间：0
  • 相关项目：基于量子效应的硅基光电信息材料的构筑原理与新技术
作者： YJ Rui, DY Chen, J Xu, Y Zhang
同期刊论文项目
基于量子效应的硅基光电信息材料的构筑原理与新技术
期刊论文 69 会议论文 3
同项目期刊论文
Charging and Coulomb blockade
“Structural characteristics a
Two-dimensional patterned nc-S
Correlation between light emis
Effect of hydrogen plasma anne
等离子体表面氮掺杂对非晶碳膜场发射特性的影响
尺寸可控的纳米硅的生长模型和实验验证
氮化硅介质中双层纳米硅薄膜的两级电荷存储
量子点浮置栅量子线沟道三栅结构单电子场效应管存储特性的数值模拟
激光干涉结晶法制备一维周期结构的纳米硅阵列
超薄硅基介质膜的制备技术与表征方法研究
室温下Ⅱ-Ⅵ族纳米晶粒在Si衬底上的化学自组装
控制氧化层对双势垒纳米硅浮栅存储结构性能的影响
Strong blue photoluminescence
Comparison between light emiss
Direct observation of resonant
Formation and field emission c
Room temperature resonant tunn
Charge storage in self-aligned
Size dependence of optical eig
Step-by-step laser crystalliza
UV and blue light emission fro
Contribution of multiple emitt
The size control of uniform na
Resonant Tunneling and Storage
Modified photoluminescence by
Photoluminescence of nc-Si/SiN
Enhanced EL efficiency of oxid
The change of photoluminescenc
Structural evolution of a-Si:H
Conformal coverage for 2D arra
Modeling and simulation for th
a-Si:H/SiO2多层膜晶化过程中的
激光限制结晶技术制备nc-Si/SiO2
Mechanism for the Self- organi
Intermediate phase silicon str
Effect of nitrogen surface dop
Single Electron Logic Based on
非晶碳化硅材料与光学微腔的制备与发光
纳米Si／SiO2多层膜的结构表征及发光特性
发光纳米硅/二氧化硅多层膜的特性与氢气氛退火的影响
自组装Si量子点阵中室温共振隧穿及微分负阻特性
基于直接胶体晶体刻蚀技术的高度有序纳米硅阵列的尺寸及形貌控制
a-Si:H/SiO2多层膜晶化过程中的发光机理
基于Si-rich SiNx/N-rich SiNy多层膜结构电致发光特性研究
利用多层膜生长技术制备纳米印章模板
微腔中nc-Si/SiN超晶格的光致发光