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Characteristics and mechanism of Al1.3Sb3Te etched by Cl2/ BCl3 inductively coupled plasmas
  • ISSN号:0167-9317
  • 期刊名称:Microelectronic Engineering
  • 时间:2014.11.13
  • 页码:51-54
  • 相关项目:纳米复合相变存储材料Si-Sb2Te3的相转变机理研究
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