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Si/SiGe量子级联激光器研究进展
  • 期刊名称:物理,35(2006) 673-678.
  • 时间:0
  • 分类:TN248[电子电信—物理电子学] TN431.2[电子电信—微电子学与固体电子学]
  • 作者机构:[1]中国科学院半导体研究所集成光电子国家重点联合实验室,北京100083, [2]2厦门大学物理系厦门大学半导体光子学研究中心,厦门361005
  • 相关基金:国家自然科学基金(批准号:60576001)资助项目
  • 相关项目:激光辅助CVD生长太赫兹SiGe量子级联超晶格结构
中文摘要:

Si/SiGe量子级联激光器是一种新型的带内跃迁的红外光源,突破了Si基材料间接带隙特性对光跃迁的限制。Si/SiGe量子级联激光器的开发将为实现太赫兹有源器件的硅基集成产生深远影响。文章介绍了Si/SiGe量子级联激光器的工作原理,以及这类激光器在能带设计、材料生长和波导制作方面的最新进展。

英文摘要:

The Si/SiGe quantum cascade laser is a new coherent IR source based on intersubband transitions, which overcomes the limitations imposed by the indirect gap. This laser will have a great impact on the development of terahertz devices and indicates a possible way to integrate active terahertz devices into silicon - based technology. In this paper we will describe the principle and latest progress in the active layer design, materials growth, and waveguide fabrication of this Si - based laser.

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