欢迎您!
东篱公司
退出
申报数据库
申报指南
立项数据库
成果数据库
期刊论文
会议论文
著 作
专 利
项目获奖数据库
位置:
成果数据库
>
期刊
> 期刊详情页
Tribological behavior of radio-frequency sputtering WS(2) thin films with vacuum annealing
ISSN号:0040-6090
期刊名称:Thin Solid Films
时间:0
页码:849-852
语言:英文
相关项目:纳流控通道中生物分子与离子迁移特性的研究
作者:
Liu, K.|Du, G.Y.|Tan, Z.|Ba, D.C.|
同期刊论文项目
纳流控通道中生物分子与离子迁移特性的研究
期刊论文 5
会议论文 5
同项目期刊论文
1-D modeling of ion transport in rectangular nanofluidic channels
The microstructure and wettability of the TiO(x) films synthesized by reactive DC magnetron sputteri
平行板纳米通道中生物分子迁移的分子模拟
Theoretical study on potential distribution and electroosmotic flow velocity in microscale channel