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高分子染料的光稳定性研究
  • ISSN号:1672-1179
  • 期刊名称:《染料与染色》
  • 时间:0
  • 分类:TQ316.31[化学工程—高聚物工业]
  • 作者机构:[1]大连理工大学精细化工国家重点实验室,大连116012
  • 相关基金:国家杰出青年科学基金(20525620);大连理工大学青年教师培养基金(893227).
中文摘要:

光稳定性是衡量高分子染料的一个重要指标,而高分子染料的光稳定性主要与高分子骨架结构、染料母体结构及着色工艺等因素有关。本文详细分析了高分子染料光褪色的原因及机理,并针对影响高分子染料光稳定性的各因素,提出相应的改进措施。

英文摘要:

Photostabilization is an important property of polymeric dye, which is affected by the polymer, dye structure and dyeing method. The photofading mechanisms of the polymeric dye were discussed and the method to improved light fastness was proved.

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期刊信息
  • 《染料与染色》
  • 主管单位:沈阳化工研究院
  • 主办单位:沈阳化工研究院
  • 主编:胥维昌
  • 地址:沈阳市铁西区沈辽东路8号
  • 邮编:110021
  • 邮箱:dyeinfo@sinochem.com
  • 电话:024-85869001
  • 国际标准刊号:ISSN:1672-1179
  • 国内统一刊号:ISSN:21-1483/TQ
  • 邮发代号:
  • 获奖情况:
  • 国家中文核心期刊
  • 国内外数据库收录:
  • 美国化学文摘(网络版)
  • 被引量:2693