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氟阴离子诱导的硅纳米线刻蚀：随掺杂度、表面晶面取向以及多孔度的影响
  • ISSN号：1520-6106
  • 期刊名称：J. Phys. Chem. C
  • 时间：2014.7.9
  • 页码：17870-17877
  • 相关项目："Si-CH=CH-(C6H4)n-CH=CH-Si纳米线"对称异质结的导电性能研究
作者： Liu, Junjun|Huang, Zhifeng|
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