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Crystalline thin films of stoichiometric Cu3N and intercalated Cu3NMx (M = metals): Growth and physi
ISSN号:1862-6300
期刊名称:Physica Status Solidi. A: Applications and Materia
时间:0
页码:2769-2780
相关项目:氮化铜结构的金属原子选择占位掺杂问题研究
作者:
Ji, Ailing|Yun, Du|Gao, Lei|Cao, Zexian|
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