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Effect of Ar+ ion etching treatment on the surface work function of Hg3In2Te6 wafer
  • ISSN号:0368-2048
  • 期刊名称:Journal of Electron Spectroscopy and Related Pheno
  • 时间:2013.4
  • 页码:49-52
  • 相关项目:新型近红外探测材料碲铟汞晶体表面及其M/S界面特性研究
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