位置:成果数据库 > 期刊 > 期刊详情页
Effect of dopants on the epitaxial growth and oxygen diffusion behaviors of CeO2-δ buffer layer for
  • ISSN号:0957-4522
  • 期刊名称:Journal of Materials Science: Materials in Electro
  • 时间:2015
  • 页码:3874-3880
  • 相关项目:氧化铈缓冲层的稳定化生长与调控机理研究
同期刊论文项目
同项目期刊论文