中文摘要：

面向45nm-32nm技术节点的超大数值孔径ArF光刻物镜必须采用高精度的像差实时在线检测技术以保证光刻机集成和运行维护的性能。本项目面向国家中长期科技发展规划的长远目标，研究45-32nm技术节点超大数值孔径ArF光刻物镜的像差检测理论和技术基础。针对超大数值孔径ArF光刻物镜波像差在线检测的需求，提出了一种新的正交位相光栅横向剪切干涉技术。本项目结合理论和实验研究两种途径，研究提高正交位相光栅横向剪切干涉技术检测精度的关键技术，主要包括对系统误差校准、精密对准和四光束剪切干涉图处理技术，建立可见光波段正交位相光栅横向剪切干涉实验系统，实现关键技术的原理验证。项目内容具有基础性和前瞻性，为我国45nm-32nm浸没式光刻物镜的研发和光刻机整机集成提供高精度像差检测理论和技术基础。