等离子体源离子注入是一种新型的离子注入技术,是目前材料改性技术的热点,广泛用于金属及半导体材料的表面处理。我们将对等离子体源离子注入内表面改性这一难点和热点进行研究,实现圆筒形样品内表面离子注入和薄膜沉积,以达到综合改善内表面的机械性能的目的。这一研究如果成功,将具有重大的工业应用价值。
英文主题词Plasma source ion implantation/Inner surface modification/Film deposion