中文摘要：

铼因其优异的性能在高温热辐射涂层材料方面的应用日益广泛，兼具载荷及热能转换的作用。这对铼材料热辐射性能的研究提出了迫切的需求。化学气相沉积铼（CVD Re）材料表面发射率可达0.8，远高于粉末冶金铼（PM Re），接近高发射率红外陶瓷材料的指标，但其热辐射特性的形成机制尚未有深入研究。本项目拟采用CVD方法制备铼涂层，研究铼涂层的结构与热辐射性能间的关系，确定不同晶体结构、微观缺陷及表面状态铼涂层的发射率，并与PM铼材料进行对比，采用分子动力学方法构建不同择优取向及内部微观结构与热辐射波的相互作用模型，从理论验证并解释CVD铼具有高发射率的形成机制。项目预期揭示CVD铼涂层具有高发射率的本质，实现金属涂层材料结构可控生长及其性能可预测调控。项目的研究成果将为铼材料在航天、航空及能源领域的应用提供科学依据。