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中文摘要：
在原子尺度研究金属薄膜表面的生长过程，对改善薄膜和低维结构的制造工艺具有重要意义。项目采用分子动力学和第一性原理等研究方法，先后开展了金属Ti在金刚石表面、Pb薄膜生长的稳定性和量子尺寸效应、外延生长过程岛的形状的形成机制、合金薄膜的量子生长与生长模式的调控等研究，达到了项目预期的目的。给出了体Ti在金刚石表面生长的扩散过程，提出了一个新的扩散机制；给出了Pb薄膜生长模式受厚度调节的规律，分析了不同衬底对薄膜生长规律的影响；在对Bi、Ga等杂质元素对Pb合金薄膜的生长模式的调制研究方面，发现Bi和Ga两种元素表现出对Pb薄膜的生长起到完全不同的调制行为。较低的掺杂情况下，都对薄膜生长，薄膜的力学、光学、电学、化学反应等特性存在明显的调制，并形成一些新奇的特性。在研究Al在Al(111)表面外延生长时，研究发现在薄膜的过程中，原子表现出有向上扩散的特征，在原子形成一些小原子岛后，沉积的原子不断地向上扩散，导致原子岛的不断变大。最终在衬底上形成一个规则的原子小山。我们研究还发现，当原子形成一些原子团簇时，它们同样可以这样向上扩散。研究结果对相关实验研究有重要的指导意义。
结论摘要：
英文主题词Thin films; Atomic diffusion; Alloy; First-principles; Moleculer Dynamics
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