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半导体的真空紫外光化学直接刻蚀研究
  • 项目名称：半导体的真空紫外光化学直接刻蚀研究
  • 项目类别：面上项目
  • 批准号：69876034
  • 项目来源：国家自然科学基金
  • 研究期限：1900-01-01-1900-01-01
  • 项目负责人：韩正甫
  • 依托单位：中国科学技术大学
  • 批准年度：1998
韩正甫的项目
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