量子点(直径<10nm)二维有序排列在未来的微电子芯片中是关键的技术。这方面问题的进展,对信息科学将会有巨大的推动。在制备纳米点阵的方法中,存在着自上而下和自下而上两条路线。目前自下而上的路线达到了50纳米的水平,而自下而上的路线可达到5-10纳米。但在工艺上自上而下的路线是传统工艺,比较成熟。而自下而上的路线虽然有良好的前景,但却存在着许多问题,有必要加大投入,以求突破。本研究在自下而上原则上将