欢迎您!
东篱公司
退出
申报数据库
申报指南
立项数据库
成果数据库
期刊论文
会议论文
著 作
专 利
项目获奖数据库
位置:
立项数据库
> 立项详情页
等离子修饰及其在三维透明阻变存储中的应用研究
项目名称: 等离子修饰及其在三维透明阻变存储中的应用研究
批准号:2015J01249
项目来源:2015年度福建省自然科学基金项目
研究期限:2015-04-
项目负责人:赖云锋
依托单位:福州大学物理与信息工程学院
批准年度:2015
成果综合统计
成果类型
数量
期刊论文
会议论文
专利
获奖
著作
2
0
0
0
0
期刊论文
Thermal stability and data retention of resistive random access memory with HfOx/ZnO double layers
溅射法制备透明HfO_x薄膜及其阻变特性研究
赖云锋的项目