中文摘要：

中文主题词极高真空; 材料表面处理; 溅射镀膜; TiN膜; 热出气率

结论摘要：

随着粒子加速器向高能量、大流强、高亮度和长寿命方向的发展，对真空度要求已从超高向极高真空跨越。追求储存环真空材料低表面热放气率、抗多次电子撞击和较低的辐射光致解吸已成为建造者主要目标。传统的材料表面处理、清洗方法已难以满足设计要求，同时由于污染问题和成本昂贵使用受到限制。研究新的极高真空材料处理方法已成为世界各国的主要课题。本课题目的是实验研究采用材料表面溅射沉积TiN膜表面处理方法，获得材料极低表面热放气率、抗多次电子撞击和较低的辐射光致解吸，特别是细长管道真空室表面处理，为新一代粒子储存环极高真空系统建造提供实验数据和理论依据。我们很好的达到了预期目的自行设计建造一套完整的细长管道真空自体溅射镀TiN膜系统，并在该系统上对长约2000mm的直径86mm的真空室内表面开展一系列镀膜实验研究，获得了令人满意的实验结果和一整套细长管道材料表面镀TiN膜处理工艺。和国际先进水平相比，采用辅助真空室设计方法使镀膜装置极为简单。巧妙利用放电过程中阴极辐射热提高了溅射效率和成膜质量。在国内率先开展储存环真空室溅射沉积TiN表面处理工艺研究，并为国内同行进行这方面研究提供了整套工艺和实验经验。