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硅基半导体中氧及缺陷行为的符合正电子湮没谱研究
  • 项目名称:硅基半导体中氧及缺陷行为的符合正电子湮没谱研究
  • 项目类别:地区科学基金项目
  • 批准号:10564001
  • 申请代码:A0402
  • 项目来源:国家自然科学基金
  • 研究期限:2006-01-01-2008-12-31
  • 项目负责人:邓文
  • 负责人职称:教授
  • 依托单位:广西大学
  • 批准年度:2005
中文摘要:

测量单晶Si、Al、B等纯元素,不同氧含量经不同热处理工艺的单晶硅,经不同热处理工艺的二氧化硅晶体的符合正电子湮没辐射Doppler展宽谱和寿命谱。研究不同氧含量不同热处理工艺的单晶硅中氧化物、缺陷、氧-缺陷复合体的形成、演化过程。研究硅和二氧化硅晶体中的微观缺陷和不同湮没态的电子密度,以及这些缺陷经不同热处理工艺后的变化。探讨氧和缺陷影响硅基半导体材料电性能的微观机理。


成果综合统计
成果类型
数量
  • 期刊论文
  • 会议论文
  • 专利
  • 获奖
  • 著作
  • 15
  • 0
  • 0
  • 0
  • 0
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