中文摘要：

深入研究了环氧树脂复制和Ni电镀复制两种超薄超光滑基底复制方法。建立了环氧树脂复制的工艺流程，掌握了玻璃母板筛选、环氧树脂均匀涂覆、环氧树脂气泡去除、铝板成形等关键技术，并研制了相应的实验仪器。提出了Pt分离层的概念，解决多层膜的分离难题。在此基础上，分别复制了W/Si周期多层膜和W/Si超反射镜样品。复制样品的表面粗糙度0.2nm-0.3nm，与玻璃母板一致；复制前后多层膜反射率曲线一致，峰值反射率分别为55.3%和54.1%。结果表明，本项目所建立的方法能够满足超薄基底复制中的表面形貌和光学性能要求。在Ni电镀复制方面，建立了Ni电镀复制的工艺流程，得到了电镀液配方、电压、电流等关键工艺参数，复制了以Ni为基底的超薄反射镜样品。由于Ni电镀复制法所需的母板要求具有导电性，而金属母板只能加工到2nm的粗糙度，因此本项目提出了在玻璃母板上镀金膜代替金属母板的方法。采用此方法，制备了粗糙度0.2-0.3nm的Ni基底超薄Mo/Si多层膜反射镜，复制前后反射率曲线接近，达到超薄基底复制的要求。本研究突破了超薄基底复制的关键技术，为我国硬X射线成像望远镜的研制奠定了关键技术基础。