位置:立项数据库 > 立项详情页
单晶金属薄膜上大面积高质量石墨烯的制备和硅插层研究
  • 项目名称:单晶金属薄膜上大面积高质量石墨烯的制备和硅插层研究
  • 项目类别:面上项目
  • 批准号:61274011
  • 项目来源:国家自然科学基金
  • 研究期限:1900-01-01-1900-01-01
  • 项目负责人:郭海明
  • 依托单位:中国科学院物理研究所
  • 批准年度:2012
郭海明的项目