本项目首先采用磁控溅射方法来制备SiNⅹ薄膜;然后分别采用电子束蒸发和丝网印刷两种办法制备铝层,组成Al/ SiNⅹ复合薄膜层,将SiNⅹ薄膜的钝化性能和复合薄膜的背面反射性能结合起来,并将这一新型结构的复合薄膜应用到晶体硅太阳电池中,解决因硅片减薄造成的电池转换效率下降问题。研究磁控溅射法制备具有钝化性能的SiNⅹ薄膜工艺,不同结构组成的氮化硅薄膜与薄膜钝化性能之间的影响规律;重点研究Al/ SiNⅹ复合薄膜的钝化性能及内背表面的反射性能,通过优化工艺寻找出具有低背面复合、高陷光和良好欧姆接触的复合薄膜层制备方案;并通过实验和软件模拟的方法研究复合薄膜性能对电池性能的影响关系。最后,在优化工艺的基础上,制备出具有双层复合薄膜的晶体硅太阳电池,使制备的太阳电池具有更高的转换效率和较低的成本,达到制备的电池转换效率与传统的铝背场工艺相比转换效率提高约10-15%。
英文主题词SiNx thin films;compound films;passivation;reflection;crystalline silicon solar cells