中文摘要：

以高硅钢的激光法制备为目标，建立激光快速渗硅新技术－激光化学气相沉积(LCVD)辅助渗硅法，研究快速渗硅过程与机理。在渗硅过程中引入激光和无氯硅源，籍激光加速硅源的分解并获得高化学活性的硅、改善其沉积动力学、促进硅与基体的反应与扩散；籍无氯硅源避免FeCl2生成造成Fe的损失并改善表面质量。通过激光对硅源局部热解和对基体局部加热的同步进行，把沉积与渗硅过程一体化，实现快速渗硅。对渗硅过程进行局部化

结论摘要：

以高硅钢的激光法制备为目标，建立两种激光渗硅新技术－激光熔覆辅助渗硅法和激光诱导化学气相沉积(LICVD)辅助渗硅法，研究激光法制备高硅钢的过程与机理。其中激光熔覆辅助渗硅法在低硅钢表面利用激光熔覆技术制备质量良好的高硅涂层，经过扩散退火处理制备硅成分均匀的高硅钢或硅成分呈梯度分布的高硅浓度梯度硅钢。激光诱导化学气相沉积辅助渗硅法在渗硅过程中引入激光和无氯硅源，籍激光加速硅源的分解并获得高化学活性的硅、改善其沉积动力学、促进硅与基体的反应与扩散；籍无氯硅源避免FeCl2生成造成Fe的损失并改善表面质量。用电镜、X射线衍射仪、能谱仪、穆谱仪、硬度计和振动样品磁强计等表征和测试所制备的高硅钢的组织、相组成、Si含量、微结构、硬度和磁性能。制作实验室规模的激光快速渗硅系统，制备成分合适的高硅钢样品。发展硅钢制造和激光应用技术。