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涂硼GEM中子探测器的国产化研究
  • 项目名称:涂硼GEM中子探测器的国产化研究
  • 项目类别:面上项目
  • 批准号:11175199
  • 申请代码:A050506
  • 项目来源:国家自然科学基金
  • 研究期限:2012-01-01-2015-12-31
  • 项目负责人:孙志嘉
  • 依托单位:中国科学院高能物理研究所
  • 批准年度:2011
中文摘要:

中子散射技术是研究物质结构和动力学性质的理想探针,已在众多学科领域的研究中被广泛采用。中子散射技术的其核心中子探测器大部分都是选用氦3气体探测器。近年来国际氦3气体资源严重短缺,使得新型中子探测器的研发工作成为国际热点。涂硼GEM中子探测器是新型中子探测器的重要研究方向,国内外开展了很多这方面的研究。由于涂硼GEM膜目前只有依赖进口,使得涂硼GEM中子探测器的造价非常高,这已经成为国内建造大规模中子探测器的瓶颈之一。本项目计划结合国内外研究现状,研究国产的涂硼厚GEM中子探测器,在对热中子探测效率和计数率等指标上力争达到国际先进水平。通过对于涂硼厚GEM的研究,掌握国产化厚GEM膜的涂硼工艺和关键性能参数。通过探测器的制作和性能研究,掌握中子探测器的制作以及信号和高压线的引出等关键技术。通过该项目的研究,为以后制作涂硼GEM中子探测器奠定基础,同时对提高我国中子探测技术水平也具有重要意义。

结论摘要:

中子散射技术是研究物质结构和动力学性质的理想探针,已在众多学科领域的研究中被广泛采用。中子散射谱仪核心部件中子探测器大部分选用氦3气体探测器。近年来国际氦3气体资源严重短缺,使得新型中子探测器的研发工作成为国际热点。涂硼GEM中子探测器是新型中子探测器的重要研究方向,国内外开展了很多这方面的研究。由于涂硼GEM膜目前只有依赖进口,使得涂硼GEM中子探测器的造价非常高,这已经成为国内建造大规模中子探测器的瓶颈之一。本项目结合国内外研究现状,研究开发了国产的涂硼THGEM中子探测器,掌握了小面积中子探测专用THGEM 膜的制作工艺和涂硼技术两项关键技术难点,通过探测器原理样机的制作和性能研究,掌握中子探测器的制作以及信号和高压线的引出等关键技术。通过该项目的研究,为以后进一步研发基于涂硼THGEM的中子探测器奠定基础。


成果综合统计
成果类型
数量
  • 期刊论文
  • 会议论文
  • 专利
  • 获奖
  • 著作
  • 7
  • 4
  • 0
  • 0
  • 0
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