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Si基溅射ZnO/Ga2O3膜反应自组GaN晶体膜的研究
  • 项目名称:Si基溅射ZnO/Ga2O3膜反应自组GaN晶体膜的研究
  • 项目类别:重大研究计划
  • 批准号:90301002
  • 申请代码:E02
  • 项目来源:国家自然科学基金
  • 研究期限:2004-01-01-2006-12-31
  • 项目负责人:庄惠照
  • 负责人职称:副教授
  • 依托单位:山东师范大学
  • 批准年度:2003
中文摘要:

利用射频溅射法在Si基衬底上制备纳米ZnO缓冲层后,再在缓冲层上溅射Ga2O3膜,在管式炉中通NH3,控制气体流量、炉温和时间,反应自组GaN晶体膜。并探索P型掺杂。研究膜的结构形貌及其稳定性,研究发光特性及机理,研究其电子输运特性,研究P型掺杂机理,研究纳米ZnO缓冲层的作用及Ga2O3膜反应自组GaN膜的原理,为制备GaN晶体膜材料探索新方法,为制作GaN光电子器件开辟新的工艺途径。

结论摘要:

利用射频溅射法在Si基衬底上制备纳米ZnO缓冲层后,再在缓冲层上溅射Ga2O3膜,在管式炉中通NH3,控制气体流量、炉温和时间,反应自组GaN晶体膜。并探索P型掺杂。研究膜的结构形貌及其稳定性,研究发光特性及机理,研究其电子输运特性,研究P型掺杂机理,研究纳米ZnO缓冲层的作用及Ga2O3膜反应自组GaN膜的原理,为制备GaN晶体膜材料探索新方法,为制作GaN光电子器件开辟新的工艺途径。


成果综合统计
成果类型
数量
  • 期刊论文
  • 会议论文
  • 专利
  • 获奖
  • 著作
  • 111
  • 6
  • 0
  • 5
  • 0
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