利用射频溅射法在Si基衬底上制备纳米ZnO缓冲层后,再在缓冲层上溅射Ga2O3膜,在管式炉中通NH3,控制气体流量、炉温和时间,反应自组GaN晶体膜。并探索P型掺杂。研究膜的结构形貌及其稳定性,研究发光特性及机理,研究其电子输运特性,研究P型掺杂机理,研究纳米ZnO缓冲层的作用及Ga2O3膜反应自组GaN膜的原理,为制备GaN晶体膜材料探索新方法,为制作GaN光电子器件开辟新的工艺途径。
利用射频溅射法在Si基衬底上制备纳米ZnO缓冲层后,再在缓冲层上溅射Ga2O3膜,在管式炉中通NH3,控制气体流量、炉温和时间,反应自组GaN晶体膜。并探索P型掺杂。研究膜的结构形貌及其稳定性,研究发光特性及机理,研究其电子输运特性,研究P型掺杂机理,研究纳米ZnO缓冲层的作用及Ga2O3膜反应自组GaN膜的原理,为制备GaN晶体膜材料探索新方法,为制作GaN光电子器件开辟新的工艺途径。