本项目利用卢瑟福背散射/沟道技术系统研究了重离子Er,Yb,Sb,及Ag注入氧化锌晶体引起的晶格损伤分布、注入离子的射程分布及高温退火扩散特性等,研究发现在600℃高温下采用多能量注入可以产生较小的晶格损伤及注入区重离子均匀分布。 利用磁控溅射技术制备稀土铒镱双掺杂氧化锌薄膜材料,通过对表面物理及光学特性研究发现当铒镱元素掺杂浓度在0.5mol%~1.5mol%内可以有效实现1540nm波段荧光发射。结合离子注入技术与磁控溅射技术制备了铒镱双掺杂氧化锌薄膜,研究表明薄膜具有较好的表面物理、表面形貌及光学特性,可以有效实现1540nm波段荧光发射。本项目通过铒镱双掺杂氧化锌材料的实验研究得到了铒镱元素的最优掺杂浓度范围及掺杂比例,优化了离子注入及磁控溅射工艺参数,取得了一些较好的研究结果,完成了项目预期目标。
英文主题词Ion implantation; RBS/Channeling;RF magnetron sputtering;DC magnetron sputtering; Photoluminence technology