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有序纳米条纹图形化的掺杂镧锰氧薄膜生长、超大磁电阻
  • 项目名称:有序纳米条纹图形化的掺杂镧锰氧薄膜生长、超大磁电阻
  • 项目类别:重大研究计划
  • 批准号:90206019
  • 申请代码:E0204
  • 项目来源:国家自然科学基金
  • 研究期限:2003-01-01-2005-12-01
  • 项目负责人:赵柏儒
  • 负责人职称:教授
  • 依托单位:中国科学院物理研究所
  • 批准年度:2002
中文摘要:

以磁控溅射和激光蒸发,生长均匀、高密度纳米条纹图形化的镧(锶)锰氧薄膜,以形貌和微观结构的观测分析、磁结构的观测分析等对其纳米特征进行表征。以多种温度环境,磁环境下电输运性质的测量,磁性质的测量对其磁电阻效应进行评价。通过这一项目的实施,获得在低磁场宽温区实用的高磁电阻性能的新型纳米材料。并为发展纳米技术开辟一个新的课题。

结论摘要:

英文主题词nano-erdered surface struchure, exchangd bias field, oscillating attenuation, rectification effect, magneto resistance effect.


成果综合统计
成果类型
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