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氮气氛溅射石墨法沉积DLC-C2N 薄膜的结构、电学及摩擦学特性研究
  • 项目名称：氮气氛溅射石墨法沉积DLC-C2N 薄膜的结构、电学及摩擦学特性研究
  • 项目类别：国际(地区)合作与交流项目
  • 批准号：20811120043
  • 项目来源：国家自然科学基金
  • 研究期限：1900-01-01-1900-01-01
  • 项目负责人：张俊彦
  • 依托单位：中国科学院兰州化学物理研究所
  • 批准年度：2008
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