欢迎您!
东篱公司
退出
申报数据库
申报指南
立项数据库
成果数据库
期刊论文
会议论文
著 作
专 利
项目获奖数据库
位置:
立项数据库
> 立项详情页
CVD 金刚石薄膜的制备、性能及光电器件应用
项目名称:CVD 金刚石薄膜的制备、性能及光电器件应用
项目类别:国际(地区)合作与交流项目
批准号:61081320063
项目来源:国家自然科学基金
研究期限:1900-01-01-1900-01-01
项目负责人:王林军
依托单位:上海大学
批准年度:2010
王林军的项目
硼(10B)/金刚石薄膜复合结构的制备及中子阵列探测技术研究
期刊论文 23
会议论文 2
纳米晶/定向金刚石薄膜的场效应光敏器件的制备科学和光电特性研究
期刊论文 24
会议论文 5
专利 6
室温核探测材料CdZnTe及其器件的设计与制备研究
期刊论文 2
金刚石膜紫外光探测器的设计和工艺研究
期刊论文 21
专利 5