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GaN单晶生长的研究
  • 项目名称:GaN单晶生长的研究
  • 项目类别:面上项目
  • 批准号:59972040
  • 申请代码:E0201
  • 项目来源:国家自然科学基金
  • 研究期限:2000-01-01-2002-12-01
  • 项目负责人:陈小龙
  • 负责人职称:研究员
  • 依托单位:中国科学院物理研究所
  • 批准年度:1999
中文摘要:

研究了GaN与助熔剂体系的作用规律,用实验数据与相图计算相结合的方法构筑出了GaN—助熔剂体系三元相图,解决了低温常压下用熔盐法生长GaN晶体的难题。在液氨条件下实现了GaN单晶生长,同时获得了立方相GaN。发展了一种具有普适性且不需要模板的纳米线制备方法,并用该方法成功地生长出GaN,Ga2O3,SnO2,ZnO,SiO2等材料的纳米线。在一些宽带隙半导体材料中,首次观察到了纳米带、纳米片以及纳米环等新的纳米结构,并对其结构和物性进行了表征。首次提出了纳米线侧向生长动力学和纳米线的稳定性理论,预测了纳米线直径本征地沿轴线存在一个锥度,当波动周期大于纳米线周长时将产生珠状纳米线,并通过实验得到验证。以上结果共发表论文20篇,其中SCI文章19篇。

结论摘要:

英文主题词GaN; Crystal growth; Phase relations; Low dimensional materials


成果综合统计
成果类型
数量
  • 期刊论文
  • 会议论文
  • 专利
  • 获奖
  • 著作
  • 20
  • 0
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