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PECVD下不同基体表面c-BN薄膜生长行为及膜/基界面微结构研究
项目名称: PECVD下不同基体表面c-BN薄膜生长行为及膜/基界面微结构研究
批准号:SKL200904SIC
项目来源:2009年度高性能陶瓷和超微结构国家重点实验室开放课题基金资助项目
研究期限:2009-09-
项目负责人:乔冠军
依托单位:西安交通大学
批准年度:2009
成果综合统计
成果类型
数量
期刊论文
会议论文
专利
获奖
著作
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期刊论文
PECVD沉积和原位退火时间对h-BN薄膜组成及光学带隙的影响
乔冠军的项目
能够后期硬化处理的Si3N4/BN/Al(Ti)复相可加工陶瓷及其原位反应的动力学调控
期刊论文 16
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获奖 1
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