中文摘要：

惯性约束聚变中的激光模拟核聚变是在实验室产生高温、高压、高密度等离子体的重要手段，是实验室核聚变研究的重要途径，对解决未来能源等问题具有重要意义。惯性约束聚变研究涉及等离子体密度、等离子体温度和不稳定性等许多重要物理参数，高分辨单能X射线成像是实现这些参数测量的重要保障，曲面多层膜反射镜是实现上述X射线成像的关键元件。因此，深入研究单能X射线成像用曲面多层膜成膜机理对于建立惯性约束聚变研究用单能X射线成像诊断装置具有重要意义和应用价值。本课题研究2～6keV能区曲面多层膜设计、制作和检测方法，重点探索镀膜成膜机理，建立空间分辨率优于7微米、能量分辨率λ/Δλ≥20、反射率>5％的曲面多层膜的膜厚与均匀性控制与校正方法，探寻利用靶枪刻蚀环的位置和大小以及相应的沉积规律模拟现有镀膜机镀膜时膜厚的均匀性分布，找出曲面多层膜的膜厚精确控制方法与稳定性规律，研究曲面多层膜的性能表征方法。