中文摘要：

本项目拟采用复合模板晶种诱导水热法制备系列均一尺寸氧化铈杂化微球，在60～600nm之间形成尺寸梯度，直径值相对不确定度均小于5%；并将其作为研磨介质用于单晶硅片的超光滑抛光。拟解决的关键科学问题为该反应体系下氧化铈杂化微球尺寸高度均一化的成核动力学分析；可控生长机制；超光滑抛光过程中的尺寸效应；杂化微球结构组成可能存在的特殊抛光功效及其变化规律。该项目研究将为氧化铈在光学晶体、半导体、微电子等领域的超光滑抛光应用提供新的物质基础和理论指导。

结论摘要：

本项目采用复合模板晶种诱导水热法制备系列均一尺寸氧化铈杂化微球，在100～600nm之间形成尺寸梯度，直径值相对不确定度均小于5%；并将其作为研磨介质实现了单晶硅片的超光滑抛光。解决的关键科学问题为该反应体系下氧化铈杂化微球尺寸高度均一化的成核动力学分析；可控生长机制；超光滑抛光过程中的尺寸效应；杂化微球结构组成存在的特殊抛光功效及其变化规律。本项目研究将为氧化铈在光学晶体、半导体、微电子等领域的超光滑抛光应用提供新的物质基础和理论指导。