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用晶界取向理论指导高质量铁硅半导体膜的离子
  • 项目名称：用晶界取向理论指导高质量铁硅半导体膜的离子
  • 项目类别：面上项目
  • 批准号：59872007
  • 项目来源：国家自然科学基金
  • 研究期限：1900-01-01-1900-01-01
  • 项目负责人：董闯
  • 依托单位：大连理工大学
  • 批准年度：1998
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