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中子和r射线幅照SiGe HBT中的深中心及其对电学性能影响
项目名称:中子和r射线幅照SiGe HBT中的深中心及其对电学性能影响
项目类别:面上项目
批准号:10075029
项目来源:国家自然科学基金
研究期限:1900-01-01-1900-01-01
项目负责人:孟祥提
依托单位:清华大学
批准年度:2000
成果综合统计
成果类型
数量
期刊论文
会议论文
专利
获奖
著作
3
0
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期刊论文
辐照对SiGe HBT增益的影响
γ射线辐照对数字型彩色CMOS图像传感器输出特性的影响
孟祥提的项目
CMOS图像传感器的电子和质子辐照损伤机理研究
期刊论文 17
会议论文 6