新型金属多层膜中界面物理与伏安特性的研究-东篱科研大数据发现系统（DRDS）

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新型金属多层膜中界面物理与伏安特性的研究

项目名称：新型金属多层膜中界面物理与伏安特性的研究
项目类别：面上项目
批准号：19574006
申请代码：A040204
项目来源：国家自然科学基金
研究期限：1996-01-01-1998-12-01

项目负责人：尹道乐
负责人职称：教授
依托单位：北京大学
批准年度：1995

中文摘要：

通过超高真空沉积条件下的在位伏安特性的研究等方法，在国际上首次观测并报道了富勒烯-金属二维渗流系统伏安特性的临界行为。对实测临界指数与常用的N-L-B模型预期值的差异从富勒烯-金属界面相互作用得出合理的解释。在国际上首次系统地观测了半连续金属薄膜生长过程中的电阻弛豫现象。证明金属原子在界面上的徙动是电阻弛豫的主要原因，弛豫的方向与强度反映了金属膜/衬底系统的界面活性。还研究了与二维电子系统伏安特性有相似关系的超导涡旋线动力学，试图统一目前国际上提出并争论的诸模型，提出了一个第二类超导体的普遍物质方程。它初步成功地解释了交流磁化率的振幅效应、磁通蠕动、磁通钉扎标度律、反常霍耳效应等许多重要实验。

中文主题词：多层膜金属- - 非金属界面伏安特性

成果综合统计