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Fe-Si助溶剂法碳化硅单晶生长研究
  • 项目名称:Fe-Si助溶剂法碳化硅单晶生长研究
  • 项目类别:面上项目
  • 批准号:50472059
  • 申请代码:E0201
  • 项目来源:国家自然科学基金
  • 研究期限:2005-01-01-2007-12-31
  • 项目负责人:潘颐
  • 负责人职称:教授
  • 依托单位:浙江大学
  • 批准年度:2004
中文摘要:

申请人发现碳化硅饱和的Fe-Si熔液中,碳化硅能经自发形核长大以碳化硅单晶颗粒析出。拟以Fe-Si为溶剂,开展Fe-Si助溶剂法大尺寸碳化硅单晶生长的基础研究。定量分析Fe-Si-C体系高温相平衡,确定碳硅饱和Fe-Si溶剂中碳化硅(而非单质碳)析出的热力学条件,优化熔体组成。自制同心连通梯度输运籽晶生长装置,熔体中加入细颗粒度的碳化硅,形成同心连通装置中非均质熔体区,与隔套内均质熔体区间形成等温浓度梯度,再通过温度梯度,实现籽晶面碳化硅过饱和度的有效控制,进行碳化硅单晶生长行为研究选择碳化硅籽晶及晶面,探讨不同过饱和碳化硅在籽晶晶面上生长速率、生长形貌稳定性、晶型及晶体缺陷的变化规律;研究形核长大机理,缺陷形成机理,单晶结构。优化单晶生长工艺,确定大尺寸碳化硅单晶生长条件。

结论摘要:

系统研究了C溶解M-Si(M = Fe, Co, Cr, Ti)熔体后SiC晶体的生长。热力学计算了M-Si-C相图等温截面,得到SiC晶体生长所需熔体成分范围。做了TiSi, CoSi, Co0.45Cr0.1Si0.45, Fe5Si3熔体中SiC单晶生长研究。发现在低含氧气氛中SiC以等轴多面体单晶生长;高含氧气氛则以一维SiC单晶纳米线形式生长。SiC等轴多面体单晶生长为溶质C和Si反应使SiC从熔体中析出,再以(111)面上多点二维形核和合并实现生长,形成表面均为{111}面(低能量面)的多面体单晶。一维SiC纳米线则先在熔体中产生SiC晶核,再由氧和Si和C反应产生的SiO和CO分别在(111)C面和Si面上沉积实现沿[111]方向生长,由不同反应温度,形成一维SiC纳米棒、纳米六棱柱和纳米竹节。纳米六棱柱具有周期孪晶结构,侧面为{111}小面,形成表面能最低平衡形状。可见光漫反射吸收光谱研究表面纳米棱柱具有间接半导体禁带。PL测试表明纳米棒、纳米六棱柱和纳米竹节的发光蓝移分别是表面原子无序,周期孪晶和节间原子无序导致。


成果综合统计
成果类型
数量
  • 期刊论文
  • 会议论文
  • 专利
  • 获奖
  • 著作
  • 22
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