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中文摘要：
高折射率光学材料的双折射特性和掩膜版图形极化效应严重地恶化了 45nm 节点以下浸没式光刻的成像质量。这一现象迫切需要建立超大数值孔径光学系统的双折射偏振成像新理论，研究消除材料双折射特性和掩膜版图形极化效应恶化光刻像质的新方法和新途径。本项目利用严格的矢量衍射理论研究投影物镜底部透镜为双折射光学材料时超大数值孔径浸没物镜成像新理论，并且基于该成像新理论研究光学材料双折射特性对浸没式光刻成像像质影响的机理。然后以此为基础，研究透镜为双折射材料时，光波偏振态和掩膜版图形极化效应对浸没式光刻成像像质影响的机理，同时研究它们对光刻成像场分布作用的相互关系。探索能够综合利用光学材料双折射特性、光波偏振态和掩膜版图形设计来实现优质光刻成像的新方法。通过本项目研究，我们发表学术论文15篇，其中SCI检索7篇，申请国家发明专利5项，其中授权国家发明专利2项。
结论摘要：
英文主题词immerision lithography; birefringence; polarization; imaging
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