基于金属氧化物(Metal-Oxide,简称MO,如ZnO、IGZO等)的薄膜晶体管(TFT)具有以其迁移率高、电学均匀性好、对可见光透明、制备温度低和成本低等优点被认为是适合驱动有机发光二极管(OLED)和高分辨率液晶显示(LCD)的理想有源器件,并成为当前学界和业界的研究热点。但是,目前MO-TFT仍然面临电学和光学性能不稳定的问题,限制了其产业化应用,需要从材料、器件结构及薄膜界面等方面进行深入的基础研究,才有可能从根本上解决这一瓶颈问题。为此,该申请项目拟研究MO-TFT稳定性的机理问题,重点研究MO材料的内部规律,包括其组分、薄膜结构、离子配位状态、能带结构和载流子输运规律等,并结合对器件结构和界面物理的研究建立科学的物理模型,深层次指导材料设计和器件制备,获得有自主知识产权的高稳定的MO材料体系,最终实现基本了解和解决MO-TFT稳定性问题的目标,并实现稳定的AMOLED样机。
英文主题词Metal oxide;Thin-film transistor;Stability;;