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金属氧化物薄膜晶体管稳定性机理的研究
  • 项目名称:金属氧化物薄膜晶体管稳定性机理的研究
  • 项目类别:青年科学基金项目
  • 批准号:61204087
  • 申请代码:F0404
  • 项目来源:国家自然科学基金
  • 研究期限:2013-01-01-2015-12-31
  • 项目负责人:兰林锋
  • 依托单位:华南理工大学
  • 批准年度:2012
中文摘要:

基于金属氧化物(Metal-Oxide,简称MO,如ZnO、IGZO等)的薄膜晶体管(TFT)具有以其迁移率高、电学均匀性好、对可见光透明、制备温度低和成本低等优点被认为是适合驱动有机发光二极管(OLED)和高分辨率液晶显示(LCD)的理想有源器件,并成为当前学界和业界的研究热点。但是,目前MO-TFT仍然面临电学和光学性能不稳定的问题,限制了其产业化应用,需要从材料、器件结构及薄膜界面等方面进行深入的基础研究,才有可能从根本上解决这一瓶颈问题。为此,该申请项目拟研究MO-TFT稳定性的机理问题,重点研究MO材料的内部规律,包括其组分、薄膜结构、离子配位状态、能带结构和载流子输运规律等,并结合对器件结构和界面物理的研究建立科学的物理模型,深层次指导材料设计和器件制备,获得有自主知识产权的高稳定的MO材料体系,最终实现基本了解和解决MO-TFT稳定性问题的目标,并实现稳定的AMOLED样机。

结论摘要:

英文主题词Metal oxide;Thin-film transistor;Stability;;


成果综合统计
成果类型
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期刊论文
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