中文摘要：

合成均分散性良好的聚合物（如PMMA，PS，NIPAM）或二氧化硅微球并用自组装方法和模板技术得到均一致密的胶体晶体。其次，采用湿法化学技术制备水溶性的具有高折光指数的Ⅳ-Ⅵ族（如PbS、PbSe、PbTe）半导体纳米微晶，研究微晶的制备条件与其尺寸大小、均分散性、形态控制等参数的影响规律及其光学性能。以胶体晶体为模板，将纳米微晶渗入或嵌入其中，经过烧蚀或刻蚀等物理或化学过程制备出一类具有广泛用途

结论摘要：

合成了尺寸为220-250纳米的单分散性聚合物（PNIPAM）微球，并用自组装方法和模板技术得到均一致密的胶体晶体。其次，采用湿法化学技术制备水溶性的具有高折光指数的Ⅳ-Ⅵ族（如PbS）半导体纳米晶，其尺寸大小3-5纳米。研究了微晶的制备条件与其尺寸大小、均分散性、形态控制等参数的影响规律及其光学性能。以胶体晶体为模板，将纳米晶渗入或嵌入其中制备三维有序的多孔材料的工作仍在进行中。通过控制微晶和微球的大小，可以制备具有预期结构的多孔材料，该材料在光/电器件及通讯、分离膜、催化等诸多领域中具有广泛用途,为近年来国际上十分活跃的热点研究课题。该课题已经取得很好进展，过去一年中已发表SCI期刊论文2篇,国际会议论文口头报告1篇，国内会议邀请报告1篇。