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脉冲调制等离子体增强原子层刻蚀多尺度研究
  • 项目名称：脉冲调制等离子体增强原子层刻蚀多尺度研究
  • 项目类别：面上项目
  • 批准号：11375040
  • 项目来源：国家自然科学基金
  • 研究期限：1900-01-01-1900-01-01
  • 项目负责人：戴忠玲
  • 依托单位：大连理工大学
  • 批准年度：2013
成果综合统计
成果类型
数量
  • 期刊论文
  • 会议论文
  • 专利
  • 获奖
  • 著作
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期刊论文
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Study on atomic layer etching of Si in inductively coupled Ar/Cl2 plasmas driven by tailored bias waveforms
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戴忠玲的项目
双频电容耦合放电等离子体流体动力学数值模拟
期刊论文 12 会议论文 2
反应离子刻蚀微观不均匀性的跨尺度研究
期刊论文 13 会议论文 5