位置:立项数据库 > 立项详情页
研究多组元新材料的快速途径
  • 项目名称:研究多组元新材料的快速途径
  • 项目类别:面上项目
  • 批准号:50172055
  • 申请代码:E0204
  • 项目来源:国家自然科学基金
  • 研究期限:2002-01-01-2004-12-01
  • 项目负责人:孙大志
  • 负责人职称:教授
  • 依托单位:中国科学院上海硅酸盐研究所
  • 批准年度:2001
中文摘要:

探索一条研究新材料的快捷途径。研制组分呈梯度分布、组成覆盖整个相图的“相图芯片”,对其电、磁和光学性能以及微区组成、纳米结构进行观测和表征,快速遴选出性能优异的新材料。这将大大提高材料研究效率、减少污染、避免浪费,对缩短新材料研发周期、保护环境、适应市场需求起到推动作用,对提升材料学研究水平和发展速度具有重要意义。

结论摘要:

英文主题词Integrated chip; Gradient materials; Diffusion layer; Characterization of property; Thin film.


成果综合统计
成果类型
数量
  • 期刊论文
  • 会议论文
  • 专利
  • 获奖
  • 著作
  • 3
  • 0
  • 0
  • 0
  • 0
相关项目
期刊论文 16 会议论文 13 获奖 2
期刊论文 5 会议论文 1
孙大志的项目