位置:立项数据库 > 立项详情页
微间隙放电机理与高沿面绝缘强度微堆层绝缘表面低温等离子体处理工艺的研究
  • 项目名称:微间隙放电机理与高沿面绝缘强度微堆层绝缘表面低温等离子体处理工艺的研究
  • 项目类别:面上项目
  • 批准号:51377153
  • 项目来源:国家自然科学基金
  • 研究期限:1900-01-01-1900-01-01
  • 项目负责人:王珏
  • 依托单位:中国科学院电工研究所
  • 批准年度:2013
王珏的项目