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GaN晶体片生长机制的探索
  • 项目名称:GaN晶体片生长机制的探索
  • 项目类别:专项基金项目
  • 批准号:10044001
  • 申请代码:A040103
  • 项目来源:国家自然科学基金
  • 研究期限:2000-01-01-2000-12-01
  • 项目负责人:陈小龙
  • 负责人职称:研究员
  • 依托单位:中国科学院物理研究所
  • 批准年度:2000
中文摘要:

研究GaN与相关体系的作用规律和GaN形成相关系,解决了GaN的生长助熔剂问题,在较温和条件下生长出了4 mm左右的GaN单晶。在液氨条件下实现了GaN单晶的生长,同时获得了立方相GaN。发展了一种新的生长GaN纳米线的方法。该方法不需要模板,直接在晶体衬底上利用气相反应法或升华法获得了直径达10-50nm长度约几十微米的平直光滑的GaN纳米线。理论上首次指出GaN纳米线生长过程中存在一个临界半径,只有当初始半径等于临界半径时,才能获得直径均匀的纳米线,否则只能生成从头部到底部存在一个正的或负的斜率的纳米线。同时在理论上分析了纳米线表面形貌的稳定性问题,指出当表面波动的周期大于纳米线周长时,将导致纳米线表面的不稳定,形成珠状结构。

结论摘要:

英文主题词GaN; Flux method; single crystal growth; nanowires


成果综合统计
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