纳米Si-SiNx复合薄膜和Si/SiNx多量子阱材料制备和非线性光学性质研究-东篱科研大数据发现系统（DRDS）

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纳米Si-SiNx复合薄膜和Si/SiNx多量子阱材料制备和非线性光学性质研究

项目名称：纳米Si-SiNx复合薄膜和Si/SiNx多量子阱材料制备和非线性光学性质研究
项目类别：面上项目
批准号：60678053
申请代码：F050902
项目来源：国家自然科学基金
研究期限：2007-01-01-2009-12-31

项目负责人：郭亨群
负责人职称：教授
依托单位：华侨大学
批准年度：2006

中文摘要：

用磁控反应溅射和退火方法制备纳米Si-SiNx复合薄膜，研究材料制备工艺、微观结构和非线性光学效应,通过改变制备工艺条件以减小纳米Si的粒径来提高纳米Si-SiNx薄膜三阶光学非线性,非线性折射率系数可达到7.4×10-15m2/w。研究磁控反应溅射制备Si/SiNx多量子阱的生长技术，制备不同结构形态（不同阱宽、不同阱深、不同周期数）的Si/SiNx多量子阱，研究量子阱结构和形态与非线性光学效应增强特性的关系。通过优化结构参数和制备工艺，使Si/SiNx多量子阱非线性折射率系数达到1.47×10-13m2/w 。研究Si/SiNx非对称耦合多量子阱的二次谐波与阱间耦合效应的关系,得到比较强的二阶非线性光学效应,二阶非线性极化率可达10-9m/V量级。分析多量子阱中激子物理行为和其非线性效应增强的机制。首次报道了磁控反应溅射制备的纳米Si-SiNx复合薄膜和Si/SiNx多量子阱薄膜作为饱和吸收体在Nd:YAG激光器中实现稳定的被动调Q与锁模运转, 表明这种材料在发展新型的光电子器件方面有很好的应用前景。

中文主题词：非线性光学效应；纳米Si-SiNx复合薄膜；Si/SiNx多量子阱；激子特性；被动调Q和锁模

结论摘要：

英文主题词nonlinear optical properties; ncSi-SiNx films; Si/SiNx multiquantum well; exciton property; passive Q-switching and mode locking

成果综合统计