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基于渗流效应的高磁电耦合铁电/铁磁多铁复相薄膜形成及其机理研究
  • 项目名称：基于渗流效应的高磁电耦合铁电/铁磁多铁复相薄膜形成及其机理研究
  • 项目类别：面上项目
  • 批准号：51772269
  • 项目来源：国自然科学基金
  • 研究期限：2018-01-2021-12
  • 项目负责人：杜丕一
  • 依托单位：浙江大学
  • 批准年度：2017
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