中文摘要：

X射线多层膜劳厄(Laue)透镜是新兴的X射线微聚焦元件，能大大提高X射线聚焦效率和分辨率。本项目开展了多层膜Laue透镜的设计、制备与测试研究。利用耦合波理论分析了X射线在多层膜Laue透镜内的衍射传播，对8keV的X射线，设计了最外层宽度为15nm的多层膜Laue透镜，计算了Laue透镜的衍射效率和分辨率。采用直流磁控溅射镀膜技术，开展了多层膜Laue透镜的制备研究。研究了W/Si，Mo/Si，WSi2/Si和MoSi2/Si多层膜的应力特性，选择WSi2/Si为膜系材料，通过定标和扫描电子显微镜测试，解决了速率漂移问题，制备了总厚度7.9微米的多层膜,膜厚误差控制在3%以内。开展了多层膜切片与制样研究，以获得理想的高宽比。依次将多层膜切片、抛光、研磨，制备出多层膜Laue透镜的楔形和平面样品，楔形样品尖端深度为10微米，平面样品深度为24.5微米。利用扫描电子显微镜和原子力显微镜对多层膜Laue透镜样品表面进行测试，结果表明膜层结构完整，界面清晰，粗糙度为3nm。X射线衍射仪的测试结果表明，多层膜Laue透镜结构与设计值吻合，证实了X射线多层膜Laue透镜的可行性。